激光镀膜设备-沈阳鹏程-激光镀膜设备批发

PLD 主要选件

离子辅助沉积 (IBAD)

高性能的离子辅助沉积系统

离子辅助沉积已经成为在无规取向的基片或无定形基片上沉积双轴结构薄膜的一种重要技术。Neocera 开发了离子辅助的PLD 系统，激光镀膜设备，该系统将PLD 在沉积复杂材料方面的优势与IBAD 能力结合在一起。

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脉冲激光沉积系统特点及优势

可根据客户需求定制产品，灵活性高，并提供专业的技术支持；靶台可以安装6个靶位，靶材更换灵活；样品台样品尺寸从10x10mm样品到2英寸样品均适用；进样室可以存储多个靶和样品；交易过程*繁琐的进、出关手续， 交货期短，激光镀膜设备批发，性价比高；

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脉冲激光沉积简介

随着现代科学和技术的发展，薄膜科学已成为近年来迅速发展的学科领域之一，是凝聚态物理学和材料科学的一个重要研究领域。功能薄膜是薄膜研究的主要方面，它不仅具有丰富的物理内涵，激光镀膜设备公司，而且在微电子、光电子、**导材料等领域具有十分广泛的应用。长期以来，人们发明了多种制膜技术和方法：真空蒸发沉积、离子束溅射、磁控溅射沉积、分子束外延、金属**化学气相沉积、溶胶- 凝胶法等。上述方法各有特点，并在一些领域得到应用。但由于其各有局限性，仍然不能满足薄膜研究的发展及多种薄膜制备的需要。随着激光技术和设备的发展，特别是高功率脉冲激光技术的发展，脉冲激光沉积（PLD）技术的特点逐渐被人们认识和接受

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