脉冲激光沉积机制
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PLD的系统设备简单,相反,它的原理却是非常复杂的物理现象。它涉及高能量脉冲辐射冲击固体靶时,PLD450型激光镀膜设备公司,激光与物质之间的所有物理相互作用,亦包括等离子羽状物的形成,其后已熔化的物质通过等离子羽状物到达已加热的基片表面的转移,及膜的生成过程。所以,PLD一般可以分为以下四个阶段:
1. 激光辐射与靶的相互作用
2. 熔化物质的动态
3. 熔化物质在基片的沉积
4. 薄膜在基片表面的成核(nucleation)与生成。
激光脉冲的工作方式
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连续激光:纤绿激光激光泵浦源持续提供能量,长时间地产生激光输出,激光镀膜设备公司,从而得到连续激光。连续激光的输出功率一般都比较低,适合于要求激光连续工作(如激光通信、激光手术等)的场合。
脉冲激光:脉冲工作方式是指每间隔一定时间才工作一次的方式。脉冲激光器具有较大输出功率,适合于激光打标、切割、测距等。常见的脉冲激光器:固体激光器中的钇铝石榴石(YAG)激光器、红宝石激光器、蓝宝石激光器、钕玻璃激光器等。 还有氮分子激光器、准分子激光器等。
巨脉冲激光:在腔内人为的加入损耗,使其大于工作物质的增益,这时没有激光输出。但在泵浦源持续不断的激励下,激光上能级的原子数越来越多,得到了较大的粒子数反转。如果定义峰值功率为脉冲的能量除以脉冲的持续时间(脉宽),那么,PLD450型激光镀膜设备公司,在撤除人为加入的损耗情况下,就会在很短的时间内以较快的速度产生脉冲宽度窄、峰值功率高的脉冲激光,通常称为巨脉冲。
脉冲激光沉积的原理
脉冲激光沉积原理:在真空环境下利用脉冲激光对靶材表面进行轰击,pld300型激光镀膜设备公司,利用激光产生的局域热量将靶材物质轰击出来,再沉积在不同的衬底上,从而形成薄膜。
脉冲激光沉积技术适合做的薄膜包括各种多元氧化物,氮化物,硫化物薄膜,金属薄膜,磁性材料等。
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