钙钛矿镀膜设备
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设备用途 :
适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、**薄膜等,可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作,也可用于大批量生产前的试验工作。广泛应用于**、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域
设备组成:
该设备主要由沉积室、真空排气系统、真空测量、蒸发源、样品加热、电控系统、等部分组成。
1、镀膜室:方形前后开门结构,内带有防污板。
2、真空度:镀膜室的极限真空≤5×10-5Pa;
3、蒸发源系统:**源蒸发源4个,350型四源**无机热蒸发镀膜机供应,无机蒸发源2套
4、样品架系统:样品大小为Φ150mm的样品,旋转速度为:0~30转/分;
5、样品在镀膜过程中,350型四源**无机热蒸发镀膜机哪家好,可烘烤加热,加热温度为:室温~190℃,测温控温。
6、膜厚控制仪:测量范围0-999999?
什么是蒸发镀膜?
蒸发镀膜常称真空镀膜。
其特点是在真空条件下,材料蒸发并在玻璃表面上凝结成膜,再经高温热处理后,350型四源**无机热蒸发镀膜机价格,在玻璃表面形成附着力很强的膜层。有70 多种元素、50 多种无机化合物材料和多种合金材料可供选择。PVD工艺的首要条件是在真空条件下操作,因为**以上的残余气体会影响膜的成分和性质。为了实现镀膜工艺,要求残余气体的压力为0.1~1Pa。
ZF350**无机联合制备:采用3~4组蒸发源可兼容金属、**物蒸发。广泛应用于高校材料、物理、化学、电子、能源等相关学科以及科研院所制备高质量功能薄膜、蒸镀电极等,**无机热蒸发镀膜机,特别适合OPV/钙钛矿/无机薄膜太阳能电池、半导体、**EL、OLED显示研究与开发领域。
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电阻蒸发镀膜机的结构以及特点
结构和特点:结构可为立卧式双开门结构,成膜速率快,色泽鲜亮,膜层不易受污染,可获得致密性好、纯度高、膜厚均匀的膜层,不产生废液、废水,可避免对环境污染,属环保设备。
沈阳鹏程真空技术有限责任公司本着多年电阻热蒸发镀膜产品行业经验,专注电阻热蒸发镀膜产品研发定制与生产,先进的电阻热蒸发镀膜产品生产设备和技术,建立了严格的产品生产体系,想要更多的了解,欢迎咨询图片上的热线电话!!!