脉冲激光沉积系统特点及优势
可根据客户需求定制产品,灵活性高,并提供专业的技术支持;靶台可以安装6个靶位,靶材更换灵活;样品台样品尺寸从10x10mm样品到2英寸样品均适用;进样室可以存储多个靶和样品;交易过程*繁琐的进、出关手续, 交货期短,性价比高;
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脉冲激光沉积简介
脉冲激光沉积,就是将激光聚焦于靶材上一个较小的面积,利用激光的高能量密度将部分靶材料蒸发甚至电离,使其能够脱离靶材而向基底运动,进而在基底上沉积,从而形成薄膜的一种方式。 在众多的薄膜制备方法中,激光镀膜设备供应,脉冲激光沉积技术的应用较为广泛,可用来制备金属、半导体、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各种物质薄膜,激光镀膜设备多少钱,甚至还用来制备一些难以合成的材料膜,如金刚石、立方氮化物膜等。
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脉冲激光沉积原理
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脉冲激光沉积原理:在真空环境下利用脉冲激光对靶材表面进行轰击,利用激光产生的局域热量将靶材物质轰击出来,再沉积在不同的衬底上,从而形成薄膜。