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脉冲激光沉积细节介绍

很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧气压力（>100 Torr）下冷却是有利的。所有Pioneer 系统设计的工作压力范围。从它们的额定初始压力到大气压力。这也有益于纳米粒子的生成。

Pioneer PLD 系统的激光束入射角为45°，保持了激光密度在靶材上的均匀性，pld300型激光镀膜设备报价，同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。浅的入射角能够拉长靶材上的激光斑点，导致密度均匀性的损失。

为了避免使用昂贵的与氧气兼容的真空泵流体，激光镀膜设备报价，消除油的回流对薄膜质量的影响，所有Pioneer 系统的标准配置都采用无油真空系统。

我们的研究表明靶和基片的距离是获得较佳薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统采用可变的靶和基片的距离，对沉积条件进行较大的控制。

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脉冲激光沉积原理

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脉冲激光沉积原理：在真空环境下利用脉冲激光对靶材表面进行轰击，利用激光产生的局域热量将靶材物质轰击出来，PLD300A型激光镀膜设备报价，再沉积在不同的衬底上，从而形成薄膜。

脉冲激光沉积介绍

脉冲激光沉积也被称为脉冲激光烧蚀（pulsed laser ablation，**），是一种利用激光对物体进行轰击，然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上，得到沉淀或者薄膜的一种手段。

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