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多源**无机蒸发系统

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主要用途：

用于纳米级单层及多层金属膜、 半导体膜等新材料的制备。广泛应用 于大专院校的薄膜材料科研。

系统组成:

由真空室、蒸发源、样品台、 真空测量、膜厚测试、电控系统组成。

技术指标：

极限真空度5.0×10-5Pa，系统漏率：1×10-7PaL/S； 恢复真空时间：40分钟可达6.6×10 Pa

真空室：D形真空室，尺寸350× 380mm 

样品台：尺寸为4英寸厚度3mm的平面样品；

电极：数量：4支水冷结构；直径Φ20㎜

样品基片:，基片在镀膜位置实现自转。基片的温度从室温至600℃

4套挡板系统：基片挡板与源挡板；靶挡板共有3套，束源炉价格， 样品挡板（１套）

石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999? 

可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统。

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双靶磁控溅射镀膜仪

产品特点

1、此款镀膜仪配置有两个靶枪：一个靶枪配套的是射频电源，用于非导电靶材的溅射镀膜；一个靶枪配套的是直流电源，用于导电材料的溅射镀膜

2、该镀膜仪可以制备多种不同材料的薄膜，应用非常广泛。

3、该镀膜仪体积较小，且配备有触摸屏控制面板，操作方便。

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钙钛矿镀膜机的特点有哪些？

1、样品位于真空室上方，蒸发源位于真空室下方，束源炉厂家，向上蒸发镀膜，且蒸发源带有挡板装置。

2、设有烘烤加热功能，束源炉，可在镀膜过程中加热样品，烘烤加热温度为≤180℃。

3、设有断水、断电连锁保护报警装置及防误操作保护报警装置。

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