pld300型激光镀膜设备供应-沈阳鹏程

脉冲激光沉积的优点

想了解更多关于脉冲激光沉积的相关资讯，请持续关注本公司。

1. 易获得期望化学计量比的多组分薄膜，即具有良好的保成分性；

2. 沉积速率高，试验周期短，衬底温度要求低，制备的薄膜均匀；

3. 工艺参数任意调节，对靶材的种类没有限制；

4. 发展潜力巨大，PLD450型激光镀膜设备供应，具有较大的兼容性；

5. 便于清洁处理，PLD300A型激光镀膜设备供应，可以制备多种薄膜材料。

PLD脉冲激光沉积系统介绍

PLD是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成新材料。

期望大家在选购脉冲激光沉积时多一份细心，少一份浮躁，不要**细节疑问。想要了解更多脉冲激光沉积的相关资讯，欢迎拨打图片上的热线电话！！！

脉冲激光沉积介绍

脉冲激光沉积，是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材，pld300型激光镀膜设备供应，生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的*特之处是能量源（脉冲激光）位于真空室的外面。这样，激光镀膜设备供应，在材料合成时，工作压力的动态范围很宽，达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度，可以合成一系列具有*特功能的纳米结构和纳米颗粒。

另外，PLD 是一种“数字”技术，在纳米尺度上进行工艺控制（A°/pulse）。

沈阳鹏程真空技术有限责任公司以诚信为首 ，服务至上为宗旨。公司生产、销售脉冲激光沉积，公司拥有强大的销售团队和经营理念。想要了解更多信息，赶快拨打图片上的热线电话！