高温束源炉的特点
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温度控制和均匀的基于SCR 功率输出电源实现准确的沉积速率控制,并确保高质量的,CF50水冷铜电极公司,均匀的膜。
◆ 使用PID 控制器进行温度控制,控制在±1℃
◆ 自动调节模式
◆ 可调节报警条件
◆ 速率控制输入与沉积控制相兼容
水冷铜电极介绍
水冷电缆电极是一种中空通水,用于大电流加热设备的特种电缆,通常由电极(电缆头)、导线、外护套管三部分组成。
普通水冷电缆电极使用铜管及铜排焊接而成,与设备连接不紧密;导线采用铜裸线绞制,弯曲半径大;外护套管使用普通橡胶软管,耐压低;套管与电极采用普通卡箍紧固,密封性不好,易漏水。优质水冷电缆电极采用整体铜棒车、铣加工而成,表面做钝化或镀锡处理;导线使用镀锡铜绞线或漆包线经数控绕线机编织而成,柔软度高,CF50水冷铜电极报价,弯曲半径小;外护套管使用具有加强夹布层的合成橡胶管,耐压高。套管与电极使用紫铜卡箍在专业设备上冷挤压紧固,密封性好,CF50水冷铜电极,不易漏水。
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靶材提纯方法
**大规模集成电路制造过程中要反复用到的溅射(Sputtering)工艺属于物理气相沉积(PVD)技术的一种,是制备电子薄膜材料的主要技术之**大规模集成电路制造过程中要反复用到的溅射(Sputtering)工艺属于物理气相沉积(PVD)技术的一种,是制备电子薄膜材料的主要技术之
溅射工艺用离子源产生的离子,在高真空中经过加速聚集,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,被轰击的固体 是用溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材。
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