派瑞林镀膜机的应用范围
此设备适用于磁性材料、橡胶件、金属件、电路板、医用器械等产品的立式固定涂敷,以达到防霉菌、防潮湿、防盐雾的三防效果,并且对于磁性材料、电路板等产品也有较佳的耐压功能,延长产品的寿命,全自动钙钛矿蒸发镀膜机报价,提高产品可靠性
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多源蒸发系统介绍
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主要用途:
系统主要用来生长EL OEL分子**电致发光器件薄膜的研究工作
系统组成:
该类设备为双室带手套箱结构的**、无机、多源**、无机气相分子沉积设备,采用直线式结构,由一个金属材料生长、氧化物生长室、一个**材料生长室和一个手套箱组成,金属材料生长和氧化物生长室以及进样室/氧化物生长室之间通过空气锁联接,全自动钙钛矿蒸发镀膜机,样品通过带远程手控盒功能的电动磁力耦合装置在两个生长室之间手动传递。可选手套箱。
技术指标:
**蒸发室:经烘烤6小时左右,并连续抽气真空优于8.0×10 Pa 无机蒸发室:经烘烤6小时左右,并连续抽气真空优于6.6×10 Pa 蒸发室:方形真空室,尺寸:450×400×350mm 恢复真空时间:40分钟可达6.6×10 Pa(短时间暴露大气并充干燥氮气后开始抽气) 样品尺寸:50×50mm 或100×100mm 设有掩膜板和掩膜库金属材料/氧化物生长室可放置1-4个热阻蒸发舟和一个掩膜库**材料生长室可放置1-8个高温或低温束源炉石英晶振膜厚控制仪:膜厚测量范围0-999999?可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统,可选手套箱。
什么是蒸发镀膜?
蒸发镀膜常称真空镀膜。
其特点是在真空条件下,材料蒸发并在玻璃表面上凝结成膜,再经高温热处理后,在玻璃表面形成附着力很强的膜层。有70 多种元素、50 多种无机化合物材料和多种合金材料可供选择。PVD工艺的首要条件是在真空条件下操作,因为**以上的残余气体会影响膜的成分和性质。为了实现镀膜工艺,要求残余气体的压力为0.1~1Pa。
ZF350**无机联合制备:采用3~4组蒸发源可兼容金属、**物蒸发。广泛应用于高校材料、物理、化学、电子、能源等相关学科以及科研院所制备高质量功能薄膜、蒸镀电极等,特别适合OPV/钙钛矿/无机薄膜太阳能电池、半导体、**EL、OLED显示研究与开发领域。
技术要求:
1、镀膜室:镀膜腔室尺寸约为Φ350×450mm,全自动钙钛矿蒸发镀膜机厂家,不锈钢材料,圆柱形前开门结构,内带有防污板。
2、抽气系统:采用分子泵+机械泵抽气系统;
2.1、真空度:镀膜室的极限真空≤6×10-4Pa;
2.2、系统漏率≤1×10-7PaL/s。
3、蒸发源系统:**源蒸发源一个,容积5ml,一台蒸发电源,可测温控温,加热温度400℃,全自动钙钛矿蒸发镀膜机生产厂家,功率0.5Kw;
4、样品架系统:样品架可放置大小为Φ100mm的样品,载玻片;旋转速度为:0~30转/分;
5、样品在镀膜过程中,带有烘烤加热功能,烘烤加热温度为:室温~400℃,测温控温。
6、设备带有断水断电连锁保护报警装置、防误操作保护报警装置。
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