磁控溅射沉积价格-磁控溅射沉积-沈阳鹏程真空技术(查看)

磁控溅射镀膜设备的主要用途

沈阳鹏程真空技术有限责任公司——专业磁控溅射产品供应商，磁控溅射沉积批发，我们为您带来以下信息。

1.各种功能性的薄膜镀膜。所镀的膜一般能够吸收、透射、反射、折射、偏光等效果。

2.时装装饰领域的应用，比如说各种全反射镀膜以及半透明镀膜，可适用在手机外壳、鼠标等产品上。

3.微电子行业领域中，其是一种非热式镀膜技术，主要应用在化学气象沉积上。

4.在光学领域中用途巨大，比如说光学薄膜(如增透膜)、低辐射玻 璃和透明导电玻璃等方面得到应用。

5.在机械行业加工中，其表面功能膜、超硬膜等等。其作用能够提供物品表面硬度从而提高化学稳定性能，能够延长物品使用周期。

自动磁控溅射系统概述

带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，大到6'旋转平台，可支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。

带有14”立方形不锈钢腔体，4个2”的磁控管，DC直流和RF射频电源。 在选配方面，350 l/s涡轮分子泵，额外的磁控管和衬底加热功能。

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小型自动磁控溅射仪

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1. 溅射室极限真空度：≤6.6×10-6 Pa

2. 系统真空检漏漏率：≤5.0×10-7Pa.l/S

3. 系统从大气开始抽气：溅射室30分钟可达到6.6×10-4 Pa；

4. 系统停泵关机12小时后真空度：≤5Pa

5. 溅射真空室1套，立式上开盖结构，尺寸不小于Ф300mm×300mm，全不锈钢结构，弧焊接，表面进行电化学抛光，内含防污内衬，可内烘烤到100～150℃，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封，腔体内有照明系统

6. 磁控溅射系统 3套， 提供3块测试靶材。镀膜不均匀度≤5%

7. 旋转基片台 1套，磁控溅射沉积，样品台可放置不小于100mm样品1片，具有连续旋转功能，旋转0—30转/分连续可调。基片加热温度：室温—500°C连续可调，由热电偶闭环反馈控制，加热电源配备控温表，控温方式为PID自动控温及数字显示

8. 观察窗口及法兰接口部件 1套

9. 工作气路1套，包含：100SCCM、20SCCM质量流量控制器、CF16截止阀、管路、接头等共2路； DN16充气阀、管路、接头等2路；

10. 抽气机组及阀门、管道 1套，包含1台进口复合分子泵及变频控制电源（680L/s ，德国普发Hipace700分子泵）；1台机械泵（4L/S） ，1台DN40气动截止阀，机械泵与真空室之间的旁抽管路1套，CC150气动闸板阀1台（用于复合分子泵与真空室隔离），节流阀1台，DN40旁抽气阀1台，压差式充气阀1台；管道采用不锈钢三通及波纹管，

11. 安装机台架组件 1套，由优质方钢型材焊接成，快卸围板表面喷塑处理，磁控溅射沉积生产厂家，机台表面用不锈钢蒙皮装饰，磁控溅射沉积价格，四只脚轮，可固定，可移动。