PLD300A型激光镀膜设备生产厂家-沈阳鹏程

脉冲激光沉积的应用领域

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脉冲激光沉积技术适合做的薄膜包括各种多元氧化物，激光镀膜设备生产厂家，氮化物，硫化物薄膜，金属薄膜，磁性材料等。

应用领域：

单晶薄膜外延（SrTiO3，LaAlO3）

压电薄膜（PZT，AlN，BiFeO3，BaTiO3）

铁电薄膜（BaTiO3，KH2PO4）

热电薄膜（SrTiO3）

金属和化合物薄膜电极（Ti，Ag，Au，Pt，PLD300A型激光镀膜设备生产厂家，Ni，Co，SrRuO3，LaNiO3，YZrO2，GdCeO2，LaSrCoFeO3）

半导体薄膜（Zn(Mg)O，AlN，pld300型激光镀膜设备生产厂家，SrTiO3）

高K介质薄膜（HfO2，CeO2，Al2O3，BaTiO3，SrTiO3，PbZrTiO3，LaAlO3，Ta2O5）

**导薄膜（YBa2CuO7-x，BiSrCaCuO）

光波导，PLD300A型激光镀膜设备生产厂家，光学薄膜（PZT，AlN，BaTiO3，Al2O3，ZrO2，TiO2）

**疏水薄膜（PTFE）

红外探测薄膜（V2O5，PZT）

PLD 主要选件

离子辅助沉积 (IBAD)系统介绍

离子辅助沉积已经成为在无规取向的基片或无定形基片上沉积双轴结构薄膜的一种重要技术。Neocera 开发了离子辅助的PLD 系统，该系统将PLD 在沉积复杂材料方面的优势与IBAD 能力结合在一起。

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脉冲激光沉积原理

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脉冲激光沉积原理：在真空环境下利用脉冲激光对靶材表面进行轰击，利用激光产生的局域热量将靶材物质轰击出来，再沉积在不同的衬底上，从而形成薄膜。