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脉冲激光沉积的应用领域

沈阳鹏程真空技术有限责任公司专业生产、销售脉冲激光沉积，以下信息由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供。

脉冲激光沉积技术适合做的薄膜包括各种多元氧化物，氮化物，硫化物薄膜，金属薄膜，磁性材料等。

应用领域：

单晶薄膜外延（SrTiO3，LaAlO3）

压电薄膜（PZT，AlN，BiFeO3，BaTiO3）

铁电薄膜（BaTiO3，KH2PO4）

热电薄膜（SrTiO3）

金属和化合物薄膜电极（Ti，Ag，Au，Pt，Ni，Co，SrRuO3，LaNiO3，YZrO2，激光镀膜设备，GdCeO2，LaSrCoFeO3）

半导体薄膜（Zn(Mg)O，AlN，SrTiO3）

高K介质薄膜（HfO2，CeO2，Al2O3，PLD300A型激光镀膜设备哪，BaTiO3，SrTiO3，PbZrTiO3，LaAlO3，Ta2O5）

**导薄膜（YBa2CuO7-x，BiSrCaCuO）

光波导，PLD300A型激光镀膜设备批，光学薄膜（PZT，AlN，BaTiO3，Al2O3，ZrO2，TiO2）

**疏水薄膜（PTFE）

红外探测薄膜（V2O5，PZT）

PLD脉冲激光沉积系统介绍

PLD是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成新材料。

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脉冲激光沉积介绍

脉冲激光沉积也被称为脉冲激光烧蚀（pulsed laser ablation，**），是一种利用激光对物体进行轰击，然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上，得到沉淀或者薄膜的一种手段。

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