PLD450型激光镀膜设备哪家好-沈阳鹏程公司

脉冲激光沉积系统(PLD)配置介绍

具体配置:

一， **高真空腔体

二， 分子泵

三， 激光扫描系统

四， 衬底加热铂金片，可达1200度

五， 基板加热构造设计

六， 基板加热电源

七，激光镀膜设备哪家好， Rheed

八，PLD300A型激光镀膜设备哪家好， Rheed软件

九， 多靶位 ，标准配置6个靶

十， Load-Lock样品传输腔体

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脉冲激光沉积原理

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脉冲激光沉积原理：在真空环境下利用脉冲激光对靶材表面进行轰击，利用激光产生的局域热量将靶材物质轰击出来，再沉积在不同的衬底上，从而形成薄膜。

脉冲激光沉积设备介绍

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是比较理想的薄膜与涂层合成设备。可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2D材料。Blue Wave还提供相关系统配件，例如基片加热装置、原位监测工具。此外，BlueWave还为您提供标准的薄膜以及材料涂层，例如氧化物涂层、导电薄膜、无定型或纳米晶Si/SiC、晶体AlN-GaN、聚合物、纳米钻石、HFCVD钻石涂层以及器件加工。