激光镀膜设备批发-沈阳鹏程真空技术

脉冲激光沉积系统(PLD)的特点

PLD系统拥有好的性能价比，激光镀膜设备批发，具有以下优异的性能:

★主真空室抽气系统前级泵采用无油干泵

★基片加热温度可达1200℃。基片台可360度旋转（转速1-20rpm可调）。

★基片与靶之间方位采用靶在下方，基片在上方，均水平放置。基片与靶间距沿Z轴（即垂直地面方向）可调。各坩埚之间要求相互隔离，不互相污染。

★同一Load Lock系统既可以传递靶又可以传递基片，可两者间切换操作。设备及光学台可联接在一起，PLD300A型激光镀膜设备批发，始终保持腔体和激光束位置稳定。支撑腿带可调节的转轮，方便在地面整体（包括腔体系统和激光器）同时移动与固定。

沈阳鹏程真空技术有限责任公司以诚信为首，服务至上为宗旨。公司生产、销售脉冲激光沉积系统，PLD300A型激光镀膜设备批发，公司拥有强大的销售团队和经营理念。想要了解更多信息，赶快拨打图片上的热线电话！

脉冲激光沉积介绍

脉冲激光沉积系统具有*特的优越性。它可以把激光烧蚀技术和我们所拥有的其他沉积技术（如RF源）集成于一台设备上。可以生长各种可能的材料。

● 配有6个旋转靶台，实现多层薄膜结构生长。

● 可与准分子激光和Yag激光相连。

● 在线监控仪器做为可选件，为客户提供高质量的工艺信息反馈。

● 装载室不但可以装取样品，还可以与其他生长设备或分析设备相连。

应用

● 多元素复合氧化物

● 高温**导材料

● 磁性材料、金属材料

● 低蒸汽压材料

● MEMS

期望大家在选购脉冲激光沉积时多一份细心，少一份浮躁，不要**细节疑问。想要了解更多脉冲激光沉积的相关资讯，欢迎拨打图片上的热线电话！！！

脉冲激光沉积

以下内容由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供，希望对**业的朋友有所帮助。

在一阶段，激光束聚焦在靶的表面。达到足够的高能量通量与短脉冲宽度时，靶表面的一切元素会快速受热，到达蒸发温度。物质会从靶中分离出来，而蒸发出来的物质的成分与靶的化学计量相同。物质的瞬时熔化率大大取决于激光照射到靶上的流量。熔化机制涉及许多复杂的物理现象，例如碰撞、热，与电子的激发、层离，以及流体力学。

在*二阶段，根据气体动力学定律，发射出来的物质有移向基片的倾向，并出现向前散射峰化现象。空间厚度随函数cosnθ而变化，而n>>1。激光光斑的面积与等离子的温度，对沉积膜是否均匀有重要的影响。靶与基片的距离是另一个因素，支配熔化物质的角度范围。亦发现，将一块障板放近基片会缩小角度范围。

*三阶段是决定薄膜质量的关键。放出的高能核素碰击基片表面，可能对基片造成各种破坏。高能核素溅射表面的部分原子，PLD450型激光镀膜设备批发，而在入射流与受溅射原子之间，建立了一个碰撞区。膜在这个热能区（碰撞区）形成后立即生成，这个区域正好成为凝结粒子的较佳场所。只要凝结率比受溅射粒子的释放率高，热平衡状况便能够快速达到，由於熔化粒子流减弱，膜便能在基片表面生成。