ICP刻蚀机的操作及判断
1. 确认万用表工作正常,量程置于200mV。
2.冷探针连接电压表的正电极,热探针与电压表的负极相连。
3.用冷、热探针接触硅片一个边沿不相连的两个点,电压表显示这两点间的电压为正值,进口化学气相沉积价格,说明导电类型为P 型,刻蚀合格。相同的方法检测另外三个边沿的导电类型是否为P型。
4.如果经过检验,任何一个边沿没有刻蚀合格,则这一批硅片需要重新装片,进行刻蚀。
沈阳鹏程真空技术有限责任公司以诚信为首 ,服务至上为宗旨。公司生产、销售ICP刻蚀机,公司拥有强大的销售团队和经营理念。想要了解更多信息,赶快拨打图片上的热线电话!
化学气相沉积的原理
沈阳鹏程真空技术有限责任公司专业生产、销售化学气相沉积,进口化学气相沉积,我们为您分析该产品的以下信息。
化学气相沉积技术是应用气态物质在固体上产生化学反应和传输反应等并产生固态沉积物的一种工艺,它大致包含三步:
(1)形成挥发性物质 ;
(2)把上述物质转移至沉积区域 ;
(3)在固体上产生化学反应并产生固态物质 。基本的化学气相沉积反应包括热分解反应、化学合成反应以及化学传输反应等集中。
化学气相沉积的特点
以下内容由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供,希望对**业的朋友有所帮助。
特点
1)在中温或高温下,通过气态的初始化合物之间的气相化学反应而形成固体物质沉积在基体上。
2)可以在常压或者真空条件下(负压“进行沉积、通常真空沉积膜层质量较好)。
)采用等离子和激光辅助技术可以显著地促进化学反应,使沉积可在较低的温度下进行。
4)涂层的化学成分可以随气相组成的改变而变化,从而获得梯度沉积物或者得到混合镀层。
5)可以控制涂层的密度和涂层纯度。
6)绕镀件好。可在复杂形状的基体上以及颗粒材料上镀膜。适合涂覆各种复杂形状的工件。由于它的绕镀性能好,所以可涂覆带有槽、沟、孔,进口化学气相沉积定做,甚至是盲孔的工件。
7)沉积层通常具有柱状晶体结构,不耐弯曲,但可通过各种技术对化学反应进行的气相扰动,以改善其结构。
8)可以通过各种反应形成多种金属、合金、陶瓷和化合物涂层。