沈阳鹏程真空技术-激光镀膜设备价格

脉冲激光沉积系统配置介绍

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脉冲激光沉积系统配置：

生长室，进样室可选水平、垂直两种靶台可选激光加热和辐射加热两种样品台可选，激光加热高的温度1200℃工艺气路可以任意搭配配备高压RHEED，激光镀膜设备价格，工作气压可达100Pa可预留法兰，用于LEED，K-Cell， E-beam等其它可选项如臭氧发生器，离子源，掩膜系统等。

脉冲激光沉积的基本系统由哪些组成？

腔室及真空泵

快速门，分子泵，全量程规

沉积源

靶台，6X1’’(25mm) 靶，可以水平旋转，

可Z方向移动

样品台

可加热至800oC（1000oC可选），可水平旋转，可Z方向移动

在线工艺监控

石英晶振沉积速率监控仪

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脉冲激光沉积机制

沈阳鹏程真空技术有限责任公司专业生产、销售脉冲激光沉积，我们为您分析该产品的以下信息。

PLD的系统设备简单，pld300型激光镀膜设备价格，相反，它的原理却是非常复杂的物理现象。它涉及高能量脉冲辐射冲击固体靶时，激光与物质之间的所有物理相互作用，PLD450型激光镀膜设备价格，亦包括等离子羽状物的形成，其后已熔化的物质通过等离子羽状物到达已加热的基片表面的转移，及膜的生成过程。所以，PLD一般可以分为以下四个阶段：

1. 激光辐射与靶的相互作用

2. 熔化物质的动态

3. 熔化物质在基片的沉积

4. 薄膜在基片表面的成核（nucleation）与生成。